新闻动态
-
202509-10
- 功耗降低35% Intel重申14A工艺
- 9月10日，消息指出，Intel预计在今年年底启动18A工艺的量产，这将是该公司首个采用GAA（环绕栅极）晶体管结构的制程技术。而2025年将成为决定下一代14...
-
202509-08
- 全国首个MOR核心技术 国产EUV光刻胶
- 9月8日消息，EUV光刻机是制造5nm以下工艺的关键设备，同样重要的还有EUV光刻胶，现在无锡宣布国内首个掌握EUV光刻胶核心技术的平台启动了。来自无锡政府网站...
-
202509-08
- 光刻机巨头 ASML 领投 Mistra
- 2025年9月8日，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）宣布主导法国人工智能初创企业MistralAI的C轮融资，此次融资总额达17亿欧元，其中ASML出资13亿欧...
-
202509-04
- 从拍卖行跨界 60后安徽阿姨做光刻设备：
- 9月4日消息，据媒体报道，全球每卖出7台PCB光刻设备，就有1台来自中国合肥。近日，芯碁微装正式递表港交所，而这家公司的创始人是一位年近60岁的女企业家，她用十...
-
202509-03
- 美国投行给中国光刻机落后ASML 20年
- 9月3日，美国知名投资银行高盛发布报告指出，中国在先进芯片制造领域相较西方国家仍存在约20年的技术差距。报告特别提到，中国光刻设备制造商与美国领先企业相比，技术...
-
202509-02
- 高盛：中国光刻机只能造65nm！落后AS
- 9月2日最新消息，尽管我国在半导体芯片产业持续加大投入并奋力追赶，但与国际领先水平相比，仍存在显著差距，尤其是在核心设备领域，该产业依然是我国科技发展面临“卡脖...
-
202508-31
- 2nm工艺淘汰国产设备 台积电两头*：国
- 8月31日消息，作为全球规模最大且技术最前沿的半导体代工企业，台积电在制程工艺上持续拉大与竞争对手的差距，但与此同时，其所承受的全球政治与供应链压力也日益加剧，...
-
202508-30
- 日本觊觎台积电2nm原因找到了：刻蚀机价
- 8月29日消息，台积电2nm工艺技术外泄案近日正式侦结，共有3人被提起公诉，最高可面临14年有期徒刑，案件后果极为严重。此案还牵涉到日本半导体设备大厂KEL威力...
